填空題

CVD過(guò)程中化學(xué)反應(yīng)所需的激活能來(lái)源有（）、（）、（）等。

答案： 熱能；等離子體；光能
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常用的濺射鍍膜氣體是（），射頻濺射鍍膜的射頻頻率是（）。
答案： 氬氣（Ar）；13.56MHz
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濺射鍍膜方法有（）、（）、（）、（）等。
答案： 直流濺射；射頻濺射；偏壓濺射；磁控濺射（反應(yīng)濺射、離子束濺射）
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