請選出正確選項填入括號內 在室溫下,半導體Si中摻入濃度為1014cm-3的磷雜質后,半導體中多數(shù)載流子是(),多子濃度為(),費米能級的位置();一段時間后,再一次向半導體中摻入濃度為1.1×1015cm-3的硼雜質,半導體中多數(shù)載流子是(),多子濃度為(),費米能級的位置();如果,此時溫度從室溫升高至K550,則雜質半導體費米能級的位置()。(已知:室溫下,ni=1010cm-3;K550時,ni=1017cm-3)
C;D;G;B;E;H;I
A. 受主雜質 B. 施主雜質 C. 中性雜質
計算含有施主雜質濃度為ND=9×1015cm-3,及受主雜質濃度為1.1×1016cm3,的硅在33K時的電子和空穴濃度以及費米能級的位置。