A、擦去原顯像層重新進行顯像 B、立即再置于滲透劑中進行重新滲透 C、采用干式顯像,重新顯示 D、從預清洗開始重復滲透探傷全過程
A、滲透前預清洗不當 B、滲透后清洗不足 C、乳化時間太短 D、以上都是
A、必須去除工件表面的滲透液,以消除有妨害的背景 B、一定要避免把缺陷中的滲透液去除掉 C、用清洗劑直接沖洗被檢表面不會影響檢測能力 D、用沾有溶劑的紗布擦拭是一種正確的清洗方法 E、除c以外都是