A、400~420nm B、500~530nm C、580~620nm D、630~760nm
A、電子槍 B、擴散泵 C、坩堝盤 D、晶振頭
A、真空室內(nèi)達(dá)到一定的真空度,開始加電流預(yù)熔材料 B、光斑不能打到坩堝邊上,更不能打到坩堝外邊 C、預(yù)熔時的最高電流一定要高于蒸發(fā)時的電流 D、不同材料不同的預(yù)熔電流