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在刻蝕中用到大量的化學(xué)氣體,通常用氟刻蝕二氧化硅。
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判斷題
在半導(dǎo)體生產(chǎn)中,濕法腐蝕是最主要的用來去除表面材料的刻蝕方法。
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判斷題
刻蝕的高選擇比意味著只刻除想要刻去的那一層材料。
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