問答題

【簡答題】最早應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠是哪種膠?

答案:

負光刻膠

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答案: 負性光刻:把與掩膜版上圖形相反的圖形復(fù)制到硅片上。
正性光刻:把與掩膜版上圖形相同的圖形復(fù)制到硅片上。兩種工藝...
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