A、下加光度位于顳側(cè)隱性小刻印下方 B、下加光度位于鼻側(cè)隱性小刻印上方 C、遠用參考圈位于顳側(cè)隱性小刻印上方 D、遠用參考圈位于鼻側(cè)隱性小刻印下方
A、鏡片減薄 B、鏡片減少像差 C、鏡片屈光度平衡 D、漸進面設計需要
A、商標 B、配鏡十字 C、隱性小刻印 D、下加光度