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采用高壓操作可以降低焦比,原因有()
A.利于硅的還原
B.抑制了直接還原
C.有利于間接還原
D.減少了滲碳
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B.高壓
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高爐下部的調(diào)劑是調(diào)整()
A.裝料制度
B.送風制度
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D.熱制度
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