A.火焰 B.石墨爐 C.氫化物發(fā)生器 D.冷蒸汽發(fā)生器
A.輔料無干擾,晶型不變不宜采用紅外鑒別 B.輔料無干擾,晶型有變與對照品同法處理后比對 C.輔料有干擾,晶型不變在指紋區(qū)選擇3~5個特征譜帶波數(shù)允差為0.5% D.輔料有干擾,晶型有變直接與標(biāo)準(zhǔn)光譜比對
A.紅外實(shí)驗(yàn)室應(yīng)保持干燥,防止儀器受潮而影響使用壽命,相對濕度應(yīng)在65%以下 B.樣品的研磨要在紅外燈下進(jìn)行,防止樣品吸水 C.壓片用的模具用后應(yīng)立即把各部分擦干凈,必要時用水清洗干凈并擦干,置干燥器中保存,以免銹蝕 D.壓片用KBr應(yīng)符合藥典規(guī)定要求,使用前可置烘箱中干燥以除去水分并研細(xì)