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化合物半導體砷化鎵常用的施主雜質是（）。
A.錫
B.硼
C.磷
D.錳
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半導體硅常用的施主雜質是（）。
A.錫
B.硫
C.硼
D.磷
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在將清洗完的硅片放進擴散爐擴散時，需要將硅片先裝入（），然后再裝入擴散爐。
A.耐熱陶瓷器皿
B.金屬器皿
C.石英舟
D.玻璃器皿
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